被测要素：需要进行形状公差、定向公差、定位公差、或跳动公差评定的实际要素。
测得要素：在实际测量条件下由测量所获得的要素。
基准要素：用来确定被测要素的几何理想方向或几何理想位置的理想要素，该要素的位置和方向
由实际基准要素决定。
单一基准要素：由一个实际基准要素构成的基准要素。
组合基准要素：由两个或多个实际基准要素组合而成的一个基准要素。
三基面体系：多个实际基准要素按一定的先后次序关系构成的由三个相互垂直的理想平面组成的
直角坐标系。
轮廓要素：由材料表面形成的要素。
中心要素：由轮廓要素的截面中心构成的要素。
形状公差：形状误差的最大允许值，它限制了被测要素相对其理想要素（线或表面）的偏离全量。
定向公差：定向误差的最大允许值，它限制了被测要素相对其理想要素（线或表面）的几何理想
方向的偏离全量。
定位公差：定位误差的最大允许值，它限制了被测要素相对其理想要素（线或表面）的几何理想
位置（包括几何理想方向和几何理想距离）的偏离全量。
跳动公差：跳动量的最大允许值，它限制了被测要素相对其基准要素的几何理想位置（或几何理
想方向）的偏离量与被测要素自身的形状误差的综合影响。实际要素是在实际测量条件下该被测要
素的客观真实要素。
独立原则(RFS):指图纸上给定的形位公差与尺寸公差相互无关，计算形位公差时不予考虑。
最大实体原则(MMC)/最小实体原则(LMC) : 指图纸上给定的形位公差与尺寸公差相互有关，计算
形位公差进行评定时，需根据工件功能要求考虑其尺寸公差。
指令：TOL-RULE(n1，n2，n3）
n1=0/1/2 分别代表 RFS/MMC/LMC
n2=0 公差规则作用于基准；n2=1 公差规则不作用于基准。
n3=0 公差规则作用于被测；n3=1 公差规则不作用于被测。
注意：MMC 和 LMC 只对圆或圆柱评定位置公差（包括定向公差、定位公差）时起作用；圆或圆柱
结果中直径项需输入名义值和上下偏差，否则无意义。
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